کاهش سمیت رزین‌ آکریلیک با حذف مونومرهای آزاد باقی‌مانده جهت توسعه جوهر رسانای نقره با پایداری بهبودیافته

هدف این مطالعه، طراحی رزین آکریلیک  کم‌سمیت برای ساخت جوهر رسانای نقره مورد استفاده در چاپ مدارهای رسانا است. رزین آکریلیک   کربوکسیله- هیدروکسیله بر پایه مونومرهای متیل متاکریلات، بوتیل اکریلات، آکریلیک  اسید و 2-هیدروکسی اتیل متاکریلات از طریق بسپارش رادیکالی آزاد به صورت محلولی سنتز شد. خصوصیات رزین نظیر دمای گذار شیشه‌ای (Tg) °C 40، عدد اسیدی 8.2، عدد هیدروکسیلی (mgKOH/g) 6/56، با استفاده از آزمون DSC، FTIR و تیتراسیون تأیید گردید. همچنین عدم سمیت ناشی از حضور مونومر آزاد توسط آزمون‌های کروماتوگرافی گازی، FTIR و درصد جامد اثبات گردید. جوهر‌های رسانا محتوی 52-74 درصد نانوذرات نقره (50-10 نانومتر)، با رزین به دست آمده تولید و با روش اسکرین چاپ شدند. جوهر Ag-59 % محتوی 59 درصد نقره در حالت خشک با داشتن مقاومت الکتریکی (Ω.cm) 7/0، پایداری عالی (بدون جدایش طی 60 روز)، چسبندگی B 5، گرانروی بهینه و دانه‌بندی زیر 10 میکرون، به‌عنوان جوهر بهینه انتخاب شد. نتایج SEM-EDX توزیع یکنواخت نانوذرات نقره در جوهر را تأیید کرد. این رزین آکریلیک می‌تواند پایه‌ای مؤثر برای تولید جوهر رسانای پایدار و کم‌سمیت با عملکرد الکتریکی مطلوب جهت جایگزینی قلع باشد.